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全自動(dòng)濕法處理系統(tǒng)
- 生產(chǎn)廠家：德國(guó)Osiris
- 產(chǎn)品型號(hào)：CHEMIXX 1201
● CHEMIXX 1201是全自動(dòng)濕法處理系統(tǒng)，配置cassette to cassette 或foup,，支持12寸及以下尺寸晶圓或9 x 9 英寸方片的濕法處理，包括蝕刻、清潔或顯影工藝。該系統(tǒng)可配...
更新時(shí)間：2022-11-25
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大尺寸濕法處理系統(tǒng)
- 生產(chǎn)廠家：德國(guó)Osiris
- 產(chǎn)品型號(hào)：CHEMIXX 760
● CHEMIXX 760系統(tǒng)是一款大尺寸濕法系統(tǒng)，支持最大樣品達(dá)535X535mm(21寸方片)，更大的樣品尺寸可定制，一臺(tái)系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)清洗、蝕刻 、顯影 ，干燥整個(gè)工藝過(guò)程。...
更新時(shí)間：2022-11-25
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濕法刻蝕專用系統(tǒng)
- 生產(chǎn)廠家：德國(guó)Osiris
- 產(chǎn)品型號(hào)：CHEMIXX E 30Pm
● CHEMIXX E 30 濕法刻蝕系統(tǒng)專門用于掩膜版與晶圓的刻蝕與清洗，安全性能好，可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液體。...
更新時(shí)間：2022-11-25
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CMP后雙面清洗機(jī)
- 生產(chǎn)廠家：德國(guó)Osiris
- 產(chǎn)品型號(hào)：CHEMIXX CMP 30pm
● CHEMIXX CMP 30pm是一款專門為晶圓雙面清洗設(shè)計(jì)的系統(tǒng)，獨(dú)立系統(tǒng)，占地面積小，非常適合有限的空間。具有4路化學(xué)液清洗，兆聲清洗，雙面PVA刷洗，去離子水沖洗等清洗模塊，對(duì)晶圓有頂級(jí)的清洗能...
更新時(shí)間：2022-11-25
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標(biāo)準(zhǔn)濕法處理系統(tǒng)
- 生產(chǎn)廠家：德國(guó)Osiris
- 產(chǎn)品型號(hào)：CHEMIXX 30pm
● CHEMIXX 30pm濕法臺(tái)是一款半自動(dòng)單面濕法系統(tǒng)，主要用于晶圓或者方片的清洗，刻蝕，顯影等應(yīng)用，其中清洗部分具有化學(xué)清洗，兆聲清洗，PVA刷洗，高壓DI水沖洗，背部清洗等多種功能。...
更新時(shí)間：2022-11-25
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12寸晶圓顯影機(jī)
- 生產(chǎn)廠家：德國(guó)Osiris
- 產(chǎn)品型號(hào)：UNIXX DB20/30
● UNIXX DB30 型晶圓顯影機(jī)是一款針對(duì)12寸及以下尺寸晶圓的半自動(dòng)系統(tǒng)，系統(tǒng)可集成顯影，清洗，干燥等模塊，同時(shí)可用于方片顯影，最大尺寸230mm*230mm。...
更新時(shí)間：2022-11-25
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8寸晶圓顯影機(jī)
- 生產(chǎn)廠家：德國(guó)Osiris
- 產(chǎn)品型號(hào)：UNIXX D20
● UNIXX DB20 型晶圓顯影機(jī)是一款針對(duì)8寸及以下尺寸晶圓的半自動(dòng)系統(tǒng)，系統(tǒng)可集成顯影，清洗，干燥等模塊，同時(shí)可用于方片顯影，最大尺寸150mm*150mm。...
更新時(shí)間：2022-11-25
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手動(dòng)晶圓烘焙熱板系統(tǒng)
- 生產(chǎn)廠家：德國(guó)Osiris
- 產(chǎn)品型號(hào)：UNIXX HTp20
● UNIXX HTp20型熱板是一款手動(dòng)桌面型烘焙系統(tǒng)，采用手動(dòng)PID控制器和定時(shí)器開(kāi)關(guān)可確保高的溫度控制精度。用于晶圓的單面烘烤，可用于預(yù)烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底膠涂覆...
更新時(shí)間：2022-11-24
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半自動(dòng)晶圓烘焙熱板系統(tǒng)
- 生產(chǎn)廠家：德國(guó)Osiris
- 產(chǎn)品型號(hào)：UNIXX HTe20
● UNIXX HTe20型熱板是一款桌面型半自動(dòng)烘焙系統(tǒng)，用于晶圓的單面烘烤，可用于預(yù)烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底膠涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake...
更新時(shí)間：2022-11-24
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